|
기술연구소 소개
1차세대 세정기술의 선두
- 반도체, PCB등 친환경 자동 세정 시스템
- Nano Particle 제어를 위한 초정밀 세정
- 디스플레이, 2차 전지 부품 전용 세정
2친환경 대체 세정의 선두
- 초순수 및 기능수를 이용한 기액혼합체의 미립화를 통한 친환경 세정제
- CFCs, MC, TCE등 오존층 파괴 물질 대체
- 유독성 화학 세정제의 대체
- 진공 재생 회수 장치
- 소량의 특정 폐수의 재활용을 극대화한 시스템
- 감압으로 비점을 낮추어 가공유와 세정제를 분리
수계/준수계 세정시스템
1개요
PCB등 반도체 세정기술은 강산화제 또는 알카리계 등의 유독성 화학물질을 세정제로 사용함으로써 인체 유해성 및 환경문제를 초례하나, 초순수와 Nano-Bubble을 이용한 기액 혼합 미립화를 통한 친환경 세정 방식으로 기존의 세정제보다 세정성이 좋고 생분해성이 우수하며, 진공재생회수 방식의 폐쇄 루프 시스템이 도입되어 폐수 처리 후 재생하여 외부 오염물 배출을 최소화 하였다.
2핵심 기술
NWG 적용 기술
- Nano-Bubble을 이용한 친환경 세정제 및 세정효과 증대 기술
- H2(O3)등을 이용한 기-액 혼합, 미립화를 통한 친환경 세정제
- CFCs, TCE, 알카리계 등 환경오염을 유발하는 화학 세정제 탈피
- 피부독성, 발암물질 등 인체 유해성이 없어 작업자의 안정성 확보
- Nano-Bubble을 이용한 용존 질소, 산소 등의 효과적 제거 및 강력한 Cavitation으로 세정 효과 증대
친환경 대체 세정 시스템 개발
세정 분야는 제품 표면의 이물질 및 가공유 제거를 위한 필수 공정이다. 최근 국제적인 환경 오염 문제 및 인체 독성의 문제로 CFCs, CCI4, TCE등은 국내외적으로 규제 되고 있으며 이를 대체하기 위한 수계/준수계, 탄화수소계등 친환경 대체 세정시스템 개발을 위해 ㈜BYT 기술연구소에서 지속적인 연구 개발을 진행하고 있다.
|
세정SYSTEM 성능
| 비교항목 | 출품제품 수준 | 기존 제품 | 기준 및 규격 | 비고 |
|---|
| 입자 제거효율 |
1㎛ |
99.48 |
1㎛ |
85.1 |
1㎛ |
99%이상 |
NEP인증기준 |
| 5㎛ |
99.52 |
5㎛ |
85.2 |
5㎛ |
| 10㎛ |
99.54 |
10㎛ |
85.5 |
10㎛ |
| 잔류 세정액 |
10-5%(0.1PPM) |
- |
0.01%이하 |
NEP인증기준 |
| 초음파전달성 |
1190 |
- |
이상이 없을 것 |
NEP인증기준 |
| 진공도 |
10-1 torr |
- |
10-1torr 이하 |
NEP인증기준 |
| 건조율 |
완전건조 |
미흡 |
완전건조 |
KSM 2109 |
| 생분해도 |
95이상 |
자료없음 |
90이상 |
KSM 2714
ASTM D1133 |
| COD(mg/L) |
40이하 |
자료없음 |
- |
KSM 2714 |
| BOD(mg/L) |
20이하 |
자료없음 |
- |
KSM 2714 |
| 표면장력 |
30이하 |
35이하 |
30이하 |
KSM 1071-4
KSM 2709 |
| 인화점 |
없음 |
자료없음 |
100이상 |
KSM ISO 1523 |
| 환경유해성 |
환경 친화적 세정제로 인체 유해성 및 환경오염 최소화
- 염소계인 TCE, MC, PCE등 인체 독성이 큰 화학 세정제 대체
- CFC-113, HCFC-141B, HCFC-225, HFE, HFC, PFE 등의 오존층 파괴 및 지구온난화 등 환경에 유해한 화학 세정제 대체
|
CLEANER 초음파 공정원리
| 일반 초음파 기술 | 진공 초음파 기술 |
|---|
- 비진공 출력방식: 용존가스(초음파 흡수)
- 주파수 출력 조정: 초음파 균일성 미흡
- CAVITATION 약화 : 후처리공정필요
|
- 진공pulse : 용존가스 제거 (초음파 확산)
- Sweep Pulse:초음파의 균일성
- Cavitation 극대화 실현 : 초정밀세정
|
 |
 |
|
WRS SYSTEM 개요
- 기존 진공 초음파 CLEANER에 WRS 장치를 추가하여 초음파 세정 및 불림 효과를 극대화하여 정밀 세정이 가능하도록 하였다. WRS 시스템에 의해 탈기된 순수를 이용하여 1차 초음파 세정 공정을 구성하고 고압 SPRAY 세정 후 진공 건조하는 방식으로 설계하였다.
- 2조에서는 세정 후 건조 공정의 부하를 줄이기 위해 액절 공정을 추가 하였으며 건조조에서는 증기 린스 및 진공 건조를 이용한 완전 건조가 가능하도록 설계 하였다.
WRS수질 CONTROL SYSTEM (WRS)
WRS in case of 100kHZ
 |
 |
Nomal oscillating
(Not using WRS) |
Water resonated situation
(using WRS) |
WRS 水共振의 원리
Micro Bubble, Nano Bubble을 생성하여 불필요한 용존 가스를 제거함으로써 Cavitation의 대규모 생성을 가능하게 하는것이 WRS SYSTEM이다.
- Cavitation의 활동에 가장 최적의 환경을 제공하기 위해 불필요한 용존 가스 제거
- 강력한 Cavitation의 핵심이 되는 Micro Bubble, Nano Bubble을 생성
- 초음파 진동의 압축 & 수축의 강력한 물리적 작용에 의해 Micro Bubble, Nano Bubble이 수공진을 일으켜 강력한 Cavitation의 연속 발생 실현
- Cavitation의 연속 발생이 시작되면 초음파 조사 방향에 관계없이 bath전체에 초음파가 전달 됨
- Micro Bubble, Nano Bubble 효율적 활용하여 세정 효과 대폭 향상됨
세정액을 改質 하여 초강력 세정
- 초강력 초음파 세정을 가능하게 함.
- 세정액 속의 초음파 강도가 종래의 5배가 향상!
광범위한 세정
- WRS로부터 생성된 Micro Bubble이 세정조 전체에 전달되어,
- 광범위한 초음파 세정을 실현!
水共振 System의 3가지 기능
1악영향을 미치는 용존 산소, 질소를 제거
2Cavitation 핵의 생성
3수공진 상태의 안정적 생성
WRS 2종류
 |
 |
- 세정액을 순환시켜 개질한다.
- 세정조에 최적
- 개질시간 : 2~3L/min
|
- DI Water를 WRS-F에 1회 통과시키는 것으로 개질 완료
- 린스조에 최적
- 개질시간 : 0분
|
WRS음압 특성 시수의 3~5배의 음압
| 항목 |
주사양 |
|---|
| 명칭 |
75002형 수공진시스템 |
|---|
| 공칭유량 |
12~15ℓ/min |
|---|
| 개액능력 |
2~3ℓ/min |
|---|
| 제어방식 |
자동조절기구 |
|---|
| 기동전류 |
9.2/8.2A(50/60Hz) |
|---|
| 정격전류 |
3/4.2A(50/60Hz) |
|---|
| 전원 |
상용전원 AC100V |
|---|
| 단상 50/60Hz |
| 액온범위 |
10~70 |
|---|
| 대상액 |
시수,순수,이온수 |
|---|
| 적응호스 |
내경 Φ19mm |
|---|
| Size(중량) |
500*170*320(h)mm(12.5kg) |
|---|
WRS-F 세정특성 (매직자국의 박리 TEST)
Glass위의 유성매직을 초음파로 제거
 |
 |
 |
| 타사 탈기장치+38kHz |
WRS+38kHz |
포화수+38kHz |
| 초음파 세정은 용존가스와 Bubble에 영향을 받는다 -> WRS의 필요성 |
WRS의 주파수 별 효과
 |
 |
| 100kHz 1200W |
200kHz 1800W |
 |
 |
| 430kHz 600W |
950kHz 900W |
|
|
|
회사소개
.jpg)
